Chemical Vapor Deposition Tube Furnace/CVD管式炉
型号:G-CVD型号化学气相沉积系统(厦门烯成石墨烯科技有限公司)
利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜,如石墨烯。可在中温或高温下,通过气态的初始化合物之间的气相化学反应而形成固体物质沉积在基体上。涂层的化学成分可以随气相组成的改变而变化,从而获得梯度沉积物或者得到混合镀层。可以控制涂层的密度和涂层纯度。
型号:G-CVD型号化学气相沉积系统(厦门烯成石墨烯科技有限公司)
利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜,如石墨烯。可在中温或高温下,通过气态的初始化合物之间的气相化学反应而形成固体物质沉积在基体上。涂层的化学成分可以随气相组成的改变而变化,从而获得梯度沉积物或者得到混合镀层。可以控制涂层的密度和涂层纯度。