Ion-beam Milling System/精密离子束减薄仪
型号:美国GATAN公司 PIPS II 695精密离子减薄仪
离子源:氩离子
最大研磨角:±10°
离子束能量:0.1 ~ 8.0 KeV
真空度:5×10-6 Torr
特性:双离子腔减薄、CCD实时观察、触摸屏GUI、冷台
主要功能:采用聚焦离子束制备金属、陶瓷、薄膜、复合材料、颗粒等各种材料的透射电镜试样,薄区面积
大、损伤小
型号:美国GATAN公司 PIPS II 695精密离子减薄仪
离子源:氩离子
最大研磨角:±10°
离子束能量:0.1 ~ 8.0 KeV
真空度:5×10-6 Torr
特性:双离子腔减薄、CCD实时观察、触摸屏GUI、冷台
主要功能:采用聚焦离子束制备金属、陶瓷、薄膜、复合材料、颗粒等各种材料的透射电镜试样,薄区面积
大、损伤小